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科技部:第三代半導(dǎo)體器件制備及評價技術(shù)取得突破

2018年09月06日 18:43 | 來源:新華社
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新華社北京9月6日電(記者胡喆)記者從科技部公布的信息了解到,近日科技部高新司在北京組織召開“十二五”期間863計劃重點支持的“第三代半導(dǎo)體器件制備及評價技術(shù)”項目驗收會。項目重點圍繞第三代半導(dǎo)體技術(shù)中的關(guān)鍵材料、關(guān)鍵器件以及關(guān)鍵工藝進(jìn)行研究,開發(fā)出基于新型基板的第三代半導(dǎo)體器件封裝技術(shù),并實現(xiàn)智能家居演示系統(tǒng)的試制。

專家介紹,以氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC)為代表的第三代半導(dǎo)體材料,具備高擊穿電場、高熱導(dǎo)率、高電子飽和速率及抗強(qiáng)輻射能力等優(yōu)異性能,更適合于制作高溫、高頻、抗輻射及大功率電子器件,在光電子和微電子領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價值。

據(jù)悉,項目為滿足對應(yīng)高性能封裝和低成本消費級封裝的需求,研制出高帶寬氮化鎵發(fā)光器件及基于發(fā)光器件的可見光通信技術(shù),并實現(xiàn)智能家居演示系統(tǒng)的試制;開展第三代半導(dǎo)體封裝和系統(tǒng)可靠性研究,形成相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)或技術(shù)規(guī)范;制備出高性能碳化硅基氮化鎵器件。

通過項目的實施,我國在第三代半導(dǎo)體關(guān)鍵的碳化硅和氮化鎵材料、功率器件、高性能封裝以及可見光通信等領(lǐng)域取得突破,自主發(fā)展出相關(guān)材料與器件的關(guān)鍵技術(shù),有助于支撐我國在節(jié)能減排、現(xiàn)代信息工程、現(xiàn)代國防建設(shè)上的重大需求。(完)

編輯:秦云

關(guān)鍵詞:科技部 第三代半導(dǎo)體 器件制備 評價技術(shù)

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